1.

国際会議録
国際会議録
1. XPS and Electrochemical Studies on Tungsten-Oxidizer Interaction in Chemical-Mechanical Polishing
Desai, V. ; Seal, S. ; Tamboli, D.
出版情報: Chemical mechanical polishing -- fundamentals and challenges : symposium held April 5-7, 1999, San Francisco, California, U.S.A..  pp.89-96,  2000.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 566
2.

国際会議録
国際会議録
2. Electrochemical Studies on Ti/TiN Barrier Layer CMP
Chathapuram, V. ; Sundarain, K. ; Du, T. ; Tamboli, D. ; Desai, V.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.156-164,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-1
3.

国際会議録
国際会議録
3. Studies on Selectivity of Tantalum Barrier in Copper CMP
Desai, V. ; Du, T. ; Chathapuram, V. ; Tamboli, D. ; Sundaram, K.
出版情報: Chemical Mechanical Planarization : proceedings of the International Symposium.  pp.148-155,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-1