1.

国際会議録
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1. PLASMA ETCHING OF InP AND RELATED MATERIALS IN ELECTRON CYCLOTRON RESONANCE CH4/H2/Ar DISCHARGES
Pearton, S. J. ; Chakrabarti, U. K. ; Kinsell, A. P. ; Emerson, A. B. ; Johnson., D. ; Constantine, C.
出版情報: Plasma processing and synthesis of materials III : symposium held April 17-19, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.297-302,  1991.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 190
2.

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2. Hydrogenation and Defect Creation in GaAs-Based Devices During High-Density Plasma Processing
Maeda, T. ; Lee, J. W. ; Abernathy, C. R. ; Pearton, S. J. ; Ren, F. ; Constantine, C. ; Shul, R. J.
出版情報: Defect and impurity engineered semiconductors, II : symposium held April 13-17, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.209-,  1998.  Warrendale, Pa.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 510
3.

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3. Chlorine-Based Plasma Etching of GaN
Shul, R. J. ; Briggs, R. D. ; Pearton, S. J. ; Vartuli, C. B. ; Abernathy, C. R. ; Lee, J. W. ; Constantine, C. ; Barratt, C.
出版情報: III-V nitrides : symposium held December 2-6, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.969-,  1997.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 449
4.

国際会議録
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4. Formation of long wavelength InP laser MESAS
Ren, F. ; Pearton, S. J. ; Tseng, B. ; Lothian, J. R. ; Constantine, C.
出版情報: III-V electronic and photonic device fabrication and performance : symposium held April 12-15, 1993, San Francisco, California, U.S.A..  pp.169-,  1993.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 300
5.

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5. OPTICAL EMISSION END-POINT DETECTION FOR VIA HOLE ETCHING IN InP AND GaAs POWER DEVICE STRUCTURES
Pearton, S. J. ; Ren, F. ; Abernathy, C. R. ; Constantine, C.
出版情報: Diagnostic techniques for semiconductor materials processing : Symposium held November 29-December 2, 1993, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.341-,  1994.  Pittsburgh.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 324
6.

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6. ICP Dry Etching of III-V Nitrides
Vartuli, C. B. ; Lee, J. W. ; MacKenzie, J. D. ; Donovan, S. M. ; Abernathy, C. R. ; Pearton, S. J. ; Shul, R. J. ; Constantine, C. ; Barratt, C. ; Katz, A. ; Poyakov, A. Y. ; Shin, M. ; Skowronski, M.
出版情報: Gallium nitride and related materials II : symposium held April 1-4, 1997, San Francisco, California, U.S.A..  pp.393-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 468
7.

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7. Parametric Study of Compound Semiconductor Etching Utilizing Inductively Coupled Plasma Source
Constantine, C. ; Johnson, D. ; Barratt, C. ; Shul, R. J. ; McClellan, G. B. ; Briggs, R. D. ; Rieger, D. J. ; Karlicek, R. F., Jr. ; Lee, J. W. ; Pearton, S. J.
出版情報: Compound semiconductor electronics and photonics : symposium held April 8-10, 1996, San Francisco, California, U.S.A..  pp.431-,  1996.  Pittsburgh, Penn.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 421
8.

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8. Dry Etching of III-V Nitrides
Pearton, S. J. ; Shul, R. J. ; McLane, G. F. ; Constantine, C.
出版情報: Gallium nitride and related materials : the First International Symposium on Gallium Nitride and Related Materials held November 27-December 1, 1995, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.717-,  1996.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 395
9.

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9. ECR, ICP and RIE plasma etching of GaN
Shul, R.J. ; McClellan, G.B. ; Rieger, D.J. ; Hafich, M.J. ; Drummond, T.J. ; Pearton, S.J. ; Abernathy, C.R. ; Constantine, C. ; Barratt, C. ; Karlicek, R.F., Jr. ; Tran, A.C. ; Schurmann, M.
出版情報: Proceedings of the First Symposium on III-V Nitride Materials and Processes.  pp.159-167,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-11
10.

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10. Silicon Nitride Passivation for InP Based Devices
Ren, F. ; Buckley, N. ; Lee, K. ; Pearton, S.J. ; Bartynski, R.A. ; Constantine, C. ; Hobson, W.S. ; Chao, P.C.
出版情報: Proceedings of the Twenty-first State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XXI).  pp.187-196,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-34
11.

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11. NEW DRY-ETCH CHEMISTRIES FOR III-V SEMICONDUCTORS
Pearton, S. J. ; Chakrabarti, U. K. ; Ren, F. ; Abernathy, C. R. ; Katz, A. ; Hobson, W. S. ; Constantine, C.
出版情報: Gas-phase and surface chemistry in electronic materials processing : symposium held November 29-December 2, 1993, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.399-,  1994.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 334
12.

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12. Comparison of ICI and IBr Plasma Chemistries for Etching of InGaAlP Alloys
Hong, J. ; Lee, J.W ; Lambers, E.S. ; Abernathy, C.R ; Pearton, S.J. ; Constantine, C. ; Hobson, W.S.
出版情報: Proceedings of the Symposium on High Speed III-V Electronics for Wireless Applications and the twenty-fifth State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XXV).  pp.56-64,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-15
13.

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13. Plasma-Induced-Damage of GaN
Shul, R.J. ; Zolper, J.C. ; Hagerott Crawford, M. ; Hickamn, R.J. ; Briggs, R.D. ; Pearton, S.J. ; Lee, J.W. ; Karlicek, R.F., Jr. ; Tran, C. ; Schurman, M. ; Constantine, C. ; Barratt, C.
出版情報: Proceedings of the Symposium on High Speed III-V Electronics for Wireless Applications and the twenty-fifth State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XXV).  pp.232-243,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-15
14.

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14. ICP Etching of GaAs Via Hole Contacts
Shul, R.J. ; Baca, A.G. ; Briggs, R.D. ; McClellan, G.B. ; Pearton, S.J. ; Constantine, C.
出版情報: Proceedings of the Symposium on High Speed III-V Electronics for Wireless Applications and the twenty-fifth State-of-the-Art Program on Compound Semiconductors (SOTAPOCS XXV).  pp.84-92,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-15
15.

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15. Binary Cr etch process control directed at the 45nm node [6283-25]
Plumhoff, J. ; Westernman, R. ; Constantine, C.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62831U-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
16.

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16. Evalution of 193-nm alternating-aperture phase-shift mask dry etch processes
Plumhoff, J. ; Constantine, C. ; Shin, J. ; Reelfs, B. ; Rausa, E. ; Benz, J.M. ; Hibbs, M.S. ; Brunner, T.A.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.253-263,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
17.

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17. Improving feature-size linearity for alternating phase-shift mask applications utilizing a next-generation ICP source
Shin, J. ; Constantine, C. ; Plumhoff, J. ; Rausa, E.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.679-683,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
18.

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18. Improvements in MoSi EAPSM CD bias and iso-dense linearity plasma etch results utilizing design of experiments process optimization of Gen III ICP plasma source
Plumhoff, J. ; Constantine, C. ; Shin, J. ; Rausa, E.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.291-302,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
19.

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19. Comparative evaluation of e-beam sensitive chemically amplifild resists for mask making
Irmscher, M. ; Beyer, D. ; Butschke, J. ; Constantine, C. ; Hoffmann, T. ; Koepernik, C. ; Krauss, C. ; Leibold, B. ; Letzkus, F. ; Mueller, D. ; Springer, R. ; Voehringer, P.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.176-187,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
20.

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20. Back to square 9: a demonstration of 9-in. reticle capability
Cummings, K.D. ; Schneider-Stoermann, L.U. ; Buttgereit, U. ; Irmscher, M. ; Mueller, D. ; Hudek, P. ; Beyer, D. ; Brendel, B. ; Whittey, J.M. ; Eynon, B.G. ; Harsch, J. ; Constantine, C. ; Miller, K.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.15-24,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
21.

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21. Quartz etch process to improve etch depth linearity and uniformity using Mask Etcher IV
Srinivasan, S. ; Plumhoff, J. ; Westerman, R. ; Johnson, D. J. ; Constantine, C.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.176-182,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
22.

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22. Achieving 65-nm design rule dry etch performance: a study of CD bias, uniformity, and linearity on binary chrome photomasks
Plumhoff, J. ; Constantine, C. ; Reelfs, B.H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.88-93,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
23.

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23. 90-nm mask making processes using the positive tone chemically amplified resist FEP171
Butschke, J. ; Beyer, D. ; Constantine, C. ; Dress, P. ; Hudek, P. ; Irmscher, M. ; Koepernik, C. ; Krauss, C. ; Plumhoff, J. ; Voehringer, P.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.344-354,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
24.

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24. Improvements in binary chrome CD performance utilizing an optimized 4th-generation reactor platform
Plumhoff, J. ; Constantine, C. ; Shin, J. ; Reelfs, B. ; Rausa, E.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.736-743,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
25.

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25. Controlling CD uniformity for 45nm technology node applications [6349-10]
Plumhoff, J. ; Srinivasan, S. ; Westerman, R. ; Johnson, D. ; Constantine, C.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63490A-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
26.

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26. Quartz etch process for alternating aperture phase shift masks (alt-APSM) [5853-20]
Srinivasan, S. ; Westerman, R. ; Plumhoff, J. ; Johnson, D. ; Constantine, C.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XII.  pp.432-437,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5853
27.

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27. Plasma etching of Cr: a multiparameter uniformity study utilizing patterns of various Cr loads
Constantine, C. ; Westerman, R. J. ; Plumhoff, J.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.153-157,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748