1.

国際会議録
国際会議録
1. A novel approach for hot-spot removal for sub-100nm manufacturing [6349-99]
Ma, M. ; Anderson, M. ; Lai, W. ; Wu, C. ; Tsao, B. ; Chu, C. ; Lin, C. ; Chou, J. ; Tsai, S.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63492P-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
2.

国際会議録
国際会議録
2. Lithography process window enhancement using integrated design defect detection and fix [6283-100]
Su, B. ; Ma, M. ; Vikram, A. ; Volk, W. ; Du, H. ; Verma, G. ; Morse, R. ; Chu, C. ; Tsao, B. ; Lin, C. ; Chou, J. ; Tsai, S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62830Q-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283