1.

国際会議録
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1. The study to enhance the accuracy of FIB repair on mask pattern of DRAM [6152-94]
Choi, Y. ; Kim, H. ; Kim, S. ; Han, O.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61522H-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
2.

国際会議録
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2. Image enhancement technology to get fine defect image for FIB [5992-49]
Choi, Y. ; Kim, H. ; Han, O.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59912C-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
3.

国際会議録
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3. Multi-point CD measurement method to evaluate pattern fidelity and performance of mask [6349-155]
Kim, M. ; Lee, H. ; Seo, K. ; Lee, D. ; Choi, Y. ; Oh, S. ; Han, O.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634944-634945,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
4.

国際会議録
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4. Improvement of develop loading effect in the FEP-171 process
Ha, T.-J. ; Lee, Y.-M. ; Choi, B.K. ; Choi, Y. ; Han, O.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.118-127,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
5.

国際会議録
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5. Cell projection EB exposure for Giga DRAM device mask
Shin, J.C. ; Lim, M. ; Lee, Y. ; Choi, B.-K. ; Choi, Y. ; Han, O.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.42-49,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
6.

国際会議録
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6. Mask patterning technology with KrF photomask repeater
Ha, T. ; Lim, M. ; Lee, Y. ; Choi, B.-K. ; Choi, Y. ; Han, O.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.655-665,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
7.

国際会議録
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7. The CD measuring repeatability enhancement by intensity gradient [6283-49]
Choi, Y. ; Kim, S. ; Kim, M. ; Han, O.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62832F-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
8.

国際会議録
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8. CD measurement evaluation on periodic patterns between optic tools and CD-SEM [6349-60]
Choi, Y. ; Kim, M. ; Oh, S. ; Han, O.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63491N-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349