1.

国際会議録
国際会議録
1. Characteristics of MA Metastable Ti+AI Powders at High Temperatures
Ahn,J.H. ; Lee,K.R. ; Cho,H.K.
出版情報: Mechanically alloyed and nanocrystalline materials : ISMANAM-94 : proceedings of the International Symposium on Metastable, Mechanically Alloyed and Nanocrystalline Materials, Grenoble, France, June 27 - July 1, 1994.  pp.153-158,  1995.  Aedermansdorf.  Trans Tech Publications
シリーズ名: Materials science forum
シリーズ巻号: 179-181
2.

国際会議録
国際会議録
2. Mask technology for 0.18-ｦﾌm device generation
Sohn,J.M. ; Choi,S.W. ; Kim,B.G. ; Cho,H.K. ; Yoon,H.S.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology III.  pp.2-11,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2793
3.

国際会議録
国際会議録
3. FIB repair of opaque defects for 64-Mb-DRAM-level binary masks
Lee,K.H. ; Cho,H.K. ; Park,J.H. ; Kim,Y.H. ; Yoon,H.S. ; Sohn,J.M.
出版情報: 16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.442-453,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2884
4.

国際会議録
国際会議録
4. Detectability and printability of programmed defects in the contact layer for 256-Mb-DRAM grade reticle
Kim,Y.H. ; Park,J.H. ; Lee,K.H. ; Cho,H.K. ; Yoon,H.S.
出版情報: 16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.548-561,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2884