1.

国際会議録
国際会議録
1. FIB repair of opaque defects for 64-Mb-DRAM-level binary masks
Lee,K.H. ; Cho,H.K. ; Park,J.H. ; Kim,Y.H. ; Yoon,H.S. ; Sohn,J.M.
出版情報: 16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.442-453,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2884
2.

国際会議録
国際会議録
2. Detectability and printability of programmed defects in the contact layer for 256-Mb-DRAM grade reticle
Kim,Y.H. ; Park,J.H. ; Lee,K.H. ; Cho,H.K. ; Yoon,H.S.
出版情報: 16th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology and Management.  pp.548-561,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2884