1.

国際会議録
国際会議録
1. HI/H2 ECR PLASMA ETCHING OF III-V SEMICONDUCTORS
Pearton, S. J. ; Chakrabarti, U. K. ; Katz, A. ; Ren, F. ; Fullowan, T. R. ; Abernathy, C R. ; Hobson, W. S.
出版情報: Materials modification by energetic atoms and ions : symposium held April 28-30, 1992, San Francisco, California, U.S.A..  pp.17-22,  1992.  Pittsburgh, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 268
2.

国際会議録
国際会議録
2. NEW DRY-ETCH CHEMISTRIES FOR III-V SEMICONDUCTORS
Pearton, S. J. ; Chakrabarti, U. K. ; Ren, F. ; Abernathy, C. R. ; Katz, A. ; Hobson, W. S. ; Constantine, C.
出版情報: Gas-phase and surface chemistry in electronic materials processing : symposium held November 29-December 2, 1993, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.399-,  1994.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 334