1.

国際会議録
国際会議録
1. Si3N4 PARTICLE REMOVAL EFFICIENCY STUDIES
Liu, J.Q. ; Lee, C. ; Rosamilia, J.M. ; Boone, T. ; Higashi, G.S.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.552-559,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
2.

国際会議録
国際会議録
2. The Influence of HF, 0H, and Dissolved 02 on Silicon Surface Chemical Cleaning
Higashi, G.S. ; Chabal, Y.J. ; Raghavachari, K. ; Becker, R.S. ; Green, M.P. ; Hanson, K. ; Boone, T. ; Eisenberg, J.H. ; Shive, S.F. ; DiBello, G.N. ; Fulford, K.L.
出版情報: Proceedings of the fourth International Symposium on Ultra Large Scale Integration Science and Technology : ULSI science and technology/1993.  pp.189-198,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-13
3.

国際会議録
国際会議録
3. DETECTION OF PROCESS INDUCED DISLOCATIONS IN SILICON
Benton, J.L. ; Higashi, G.S. ; Boone, T.
出版情報: Proceedings of the Seventh International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.1117-1122,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-10
4.

国際会議録
国際会議録
4. 6 Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing: Approaches to Environmentally Responsible Processing
Rosamillia, J.M. ; Boone, T. ; Higashi, G.S.
出版情報: Proceedings of the Symposium on Environmental Aspects of Electrochemical Technology: applications in electronics.  pp.68-82,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-21