1.

国際会議録
国際会議録
1. Fully depleted SOI process and device technology for digital and RF application
Ichikawa, F. ; Nagatomo, Y. ; Katakura, Y. ; Itoh, S. ; Matsuhashi, H. ; Hirashita, N. ; Baba, S.
出版情報: Silicon-on-insulator technology and devices XI : proceedings of the international symposium.  pp.123-132,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-5
2.

国際会議録
国際会議録
2. Fully Depleted SOI Process and Device Technology for Digital and RF Applications*
Ichikawa, F. ; Nagatomo, V. ; Katakura, V. ; Itoh, S. ; Matsuhashi, H. ; Hirashita, N. ; Baba, S.
出版情報: ULSI Process Integration : proceedings of the International Symposium.  pp.546-555,  2003.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-6