1.

国際会議録
国際会議録
1. UV and Visible Raman Spectroscopy Applied to sSi/Si1-xGex and sSOI Stacks
D. Rouchon ; J. Hartmann ; A. Crisci ; M. Mermoux
出版情報: SiGe, Ge, and Related Compounds 3: Materials, Processing, and Devices.  pp.181-188,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(10)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Strain in Epitaxial Si/SiGe Graded Buffer Structures Grown on Si (100), Si (110) and Si(111): a Raman Spectroscopy Study
D. Rouchon ; V. Destefanis ; J. Hartmann ; A. Crisci ; M. Mermoux
出版情報: SiGe, Ge, and Related Compounds 3: Materials, Processing, and Devices.  pp.203-214,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(10)