1.

国際会議録

国際会議録
Claflin, B. ; Flock, K. ; Lucovsky, G.
出版情報: Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A..  pp.603-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 567
2.

国際会議録

国際会議録
Wolfe, D. ; Flock, K. ; Therrien, R. ; Johnson, R. ; Rayner, B. ; Gunther, L. ; Brown, N. ; Claflin, B. ; Lucovsky, G.
出版情報: Ultrathin SiO[2] and high-K materials for USLI gate dielectrics : symposium held April 5-8, 1999, in San Francisco, California, U.S.A..  pp.343-,  1999.  Warrendale, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 567