1.

国際会議録
国際会議録
1. Spot sensor enanled reticle uniformity measurements for 65 nm CDU analysis with scatterometry [6281-18]
Janssen, M. ; van Ingen Schenau, K. ; van der Laan, H.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810F-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
2.

国際会議録
国際会議録
2. System qualification and optimization for imaging performance on the 0.80-NA 248-nm step-and-scan systems
van Ingen Schenau, K. ; Bakker, H. ; Zellenrath, M. ; Moerman, R. ; Linders, J. ; Rohe, T. ; Emer, W.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.637-651,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691