1.

国際会議録
国際会議録
1. 29 Batch Atomic Layer Deposition for MIM capacitors
de Blank, R. ; Snijders, G.J. ; Beulens, S. ; Vandezande, L. ; Wilhelm, R. ; Hasper, A.
出版情報: Advanced short-time thermal processing for Si-based CMOS devices : proceedings of the international symposium.  pp.225-230,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-14
2.

国際会議録
国際会議録
2. CRITICAL ASPECTS OF WAFER CLEANING AND GATE OXIDE INTEGRITY
Mertens, P.W. ; Meuris, M. ; Schmidt, H.F. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.M. ; Carr, P. ; Graeff, D. ; Schnegg, A. ; Kubota, M. ; Dillenbeck, K. ; de Blank, R.
出版情報: Proceedings of the Satellite Symposium to ESSDERC 93 Grenoble/France : crystalline defects and contamination: their impact and control in device manufacturing.  pp.87-102,  1993.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1993-15