1.

国際会議録
国際会議録
1. In Situ Monitoring of Thin Film Reactions During Rapid Thermal Annealing: Nickel Silicide Formation
Lavoje, C. ; Purtell, R. ; Cola, C. ; Detavernier, C. ; Desjardins, P. ; Jordan-Sweet, J. ; Cabral, C., Jr. ; d'Heurle, F.M. ; Harper., J.M.E.
出版情報: Rapid thermal and other short-time processing technologies III : proceedings of the international symposium.  pp.455-468,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-11
2.

国際会議録
国際会議録
2. DOPANT DIFFUSION IN TiSi2
d'Heurle, F.M. ; Michel, A.E. ; LeGoues, F.K. ; Scilla, G. ; Wetzel, J.T. ; Gas, P.
出版情報: Interfaces, superlattices, and thin films : symposium held December 1-6, 1986, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.333-338,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 77