1.

国際会議録
国際会議録
1. Characterization of high-density plasma CVD USG film
Lu,W. ; Zheng,J.Z. ; Sudijuno,J. ; Yap,H.L. ; Fam,K.S. ; Leong,C. ; Liao,M.D. ; Lin,Y.S.
出版情報: Multilevel Interconnect Technology.  pp.94-103,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3214
2.

国際会議録
国際会議録
2. Tungsten CMP process characterization for sub-0.35-ｦﾌm technology
Chia,C. ; Zheng,J.Z. ; Jiang,W.D. ; Tse,T.Y.
出版情報: Multilevel Interconnect Technology.  pp.65-71,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3214
3.

国際会議録
国際会議録
3. Degradation of PMOS series resistance due to Si implantation for Ti-salicide process
Lim,E.H. ; Siah,S.-Y. ; Lim,C.W. ; Lee,Y.M. ; Zheng,J.Z. ; Sundaresan,R. ; Pey,K.L.
出版情報: Microelectronic Device Technology III.  pp.152-158,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3881
4.

国際会議録
国際会議録
4. Impact of active dimension on junction leakages of a Ti-salicide process integrated with shallow-trench isolation
Siah,S.-Y. ; Lim,E.H. ; Shiu,M.-J. ; Lee,K.H. ; Zheng,J.Z.
出版情報: Microelectronic Device Technology III.  pp.293-301,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3881