1.

国際会議録
国際会議録
1. 193-nm single-layer process for 150-nm technology generation and below
Amblard, G. R. ; Zandbergen, P. ; McCallum, M. ; Stephen, A. ; Byers, J. D. ; Dean, K. R. ; Meute, J. ; Nelson, C. M.
出版情報: Microlithography 1999 : advances in resist technology and processing XVI : 15-17 March 1999, Santa Clara, California.  pp.810-827,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3678
2.

国際会議録
国際会議録
2. Compensation of high-NA mask topography effects by using object modified Kirchhoff model for 65 and 45nm nodes [6154-54]
Aksenov, Y. ; Zandbergen, P. ; Yoshizawa, M.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.61541H-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154