1.

国際会議録
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1. *MICROFABRICATION TECHNOLOGIES FOR ADVANCED VLSI DEVICES
Horiike, Y. ; Yoshikawa, R. ; Okano, H. ; Nakase, M. ; Komano, H. ; Takigawa, T.
出版情報: Photon, beam, and plasma stimulated chemical processes at surfaces : symposium held December 1-4, 1986, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.17-26,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 75
2.

国際会議録
国際会議録
2. *MICROFABRICATION TECHNOLOGIES FOR ADVANCED VLSI DEVICES
Horiike, Y. ; Yoshikawa, R. ; Okano, H. ; Nakase, M. ; Komano, H. ; Takigawa, T.
出版情報: Science and technology of microfabrication : symposium held December 4-5, 1986, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.39-48,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 76
3.

国際会議録
国際会議録
3. Shot number analysis at 65-nm node mask writing using VSB writer
Hirumi, J. ; Kuriyama, K. ; Yoshioka, N. ; Yoshikawa, R. ; Hojo, Y. ; Matuzaka, T. ; Tanaka, K. ; Hoga, M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology X.  pp.309-317,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5130
4.

国際会議録
国際会議録
4. Advanced electron-beam writing system EX-11 for next-generation mask fabrication
Tojo, T. ; Yoshikawa, R. ; Ogawa, Y. ; Tamamushi, S. ; Hattori, Y. ; Koikari, S. ; Kusakabe, H. ; Abe, T. ; Ogasawara, M. ; Akeno, K. ; Anze, H. ; Hattori, K. ; Hirano, R. ; Yoshitake, S. ; Iijima, T. ; Ohtoshi, K. ; Matsuki, K. ; Shimomura, N. ; Yamada, N. ; Higurashi, H. ; Nakayamada, N. ; Fukudome, Y. ; Hara, S. ; Murakami, E. ; Kamikubo, T. ; Suzuki, Y. ; Oogi, S. ; Shimizu, M. ; Nishimura, S. ; Tsurumaki, H. ; Yasuda, S. ; Ooki, K. ; Koyama, K. ; Watanabe, S. ; Yano, M. ; Suzuki, H. ; Hoshino, H. ; Toriumi, M. ; Watanabe, O. ; Tsuji, K. ; Katayama, M. ; Tsuchiya, S. ; Suzuki, K. ; Kurasawa, S. ; Okuzono, K. ; Yamada, H. ; Handa, K. ; Suzuki, Y. ; Akiyama, T. ; Tada, Y. ; Noma, A. ; Takigawa, T.
出版情報: Photomask and X-Ray Mask Technology VI.  pp.416-425,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3748
5.

国際会議録
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5. 257-nm wavelength mask inspection for 65-nm node reticles
Yoshikawa, R. ; Tanizaki, H. ; Watanabe, T. ; Inoue, H. ; Ogawa, R. ; Endo, S. ; Ikeda, M. ; Takahashi, Y. ; Watanabe, H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.313-319,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446