Skip to main content
東京工業大学附属図書館
文献データベース
図書館トップページ
電子ジャーナルリスト
オンラインリクエスト
新着図書
新着雑誌
蔵書検索
文献DB
資料名DB
横断検索
貸出ランキング
東工大ブックレビュー
ヘルプ
English
日本語
English
日本語
東京工業大学附属図書館が所蔵する国際会議録に収録された論文、テクニカルペーパーの文献情報を検索できます。
学内の方は、SwetScan(約17,000タイトルの外国雑誌の目次情報)もあわせて検索できます。
* SwetScanの検索結果には、当館が所蔵していない資料も含まれます。
検索に使用されるデータベース一覧
検索条件をリセット
同じキーワードで他のサイトを検索できます。
CiNii Books
NDL Search
WebcatPlus
amazon
カーリル
WorldCat
絞り込み検索
タイトル:
著者名:
ISSN / ISBN / ペーパー番号:
掲載資料名:
出版者:
発行年:
~
並び替え
関連度
タイトル(昇順)
タイトル(降順)
著者名(昇順)
著者名(降順)
発行年(新しい順)
発行年(古い順)
掲載資料名(昇順)
掲載資料名(降順)
検索条件をリセット
資料種別:
国際会議録
テクニカルペーパー
学術雑誌
選択:
全てをチェック
|
全てのチェックをはずす
表示順選択
並び替え
関連度
タイトル(昇順)
タイトル(降順)
著者名(昇順)
著者名(降順)
発行年(新しい順)
発行年(古い順)
掲載資料名(昇順)
掲載資料名(降順)
検索結果:
2
件
1.
国際会議録
国際会議録
1.
150-nm mask fabrication using thin ZEP 7000 resist,GHOST,and dry etch for the MEBES 5000 pattern generator
kim,M.Y. ; Lee,H. ; Yoon,Y.J. ; Choi,B.-Y.
出版情報:
Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VII
. pp.243-251, 2000. Bellingham, Wash.. SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4066
2.
国際会議録
国際会議録
2.
Evaluation of reticle cleaning performance with different drying methods for high-grade photomasks
Jeong,W.G. ; Lee,S.W. ; Kim,D.H. ; Yoon,Y.J. ; Lee,D.H. ; Choi,B.Y. ; Choi,S.-S. ; Jung,S.M. ; Jeong,S.-H.
出版情報:
21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology
. 4562 pp.99-110, 2001. Bellingham, Wash.. SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名:
Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号:
4562
しぼり込み条件:
著者名: Yoon,Y.J.
言語
英語
(2)
発行年
2000-2009
(2)
資料種別
国際会議録
(2)
著者名
Choi,B.-Y.
(1)
Choi,B.Y.
(1)
Choi,S.-S.
(1)
Jeong,S.-H.
(1)
Jeong,W.G.
(1)
さらに…
図書館トップページ