1.

国際会議録
国際会議録
1. ArF issues of 90-nm-node DRAM device integration
Goo, D.-H. ; Kim, B.-S. ; Park, J.-S. ; Yoon, K.-S. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Three  pp.1296-1303,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
2.

国際会議録
国際会議録
2. Fluorocarbon-based single-layer resist for 157-nm lithography
Song, K.Y. ; Yoon, K.-S. ; Choi, S.-J. ; Woo, S.-G. ; Han, W.-S. ; Lee, J.-J. ; Lee, S.-K. ; Noh, C.-H. ; Honda, K.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XIX.  Part One  pp.504-511,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4690
3.

国際会議録
国際会議録
3. New approach for quartz dry etching using hardmask for sub-90-nm photomask technology
Huh, S. ; Yoon, K.-S. ; Jang, I.-Y. ; Hwang, J.-H. ; Shin, I.-K. ; Choi, S.-W. ; Han, W.-S.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.19-27,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446