1.

国際会議録
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1. 25 nm immersion lithography at 193 nm wavelength
Choi, S.-H. ; Park, T.-H. ; Kim, E. ; Youn, H.-J. ; Lee, D.-Y. ; Ban, Y.-C. ; Je, A.-Y. ; Kim, D.-H. ; Hong, J.-S. ; Kim, Y.-H. ; Yoo, M.-H. ; Kong, J.-T.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.141-147,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
2.

国際会議録
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2. Hybrid PPC methodology using multi-step correction and implementation for the sub-100-nm node
Choi, S.-H. ; Park, J.-S. ; Park, C.-H. ; Chung, W.-Y. ; Kim, I.-S. ; Kim, D.-H. ; Kim, Y.-H. ; Yoo, M.-H. ; Kong, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1176-1183,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
国際会議録
3. A memory efficient large mask data handling method using repetition [6349-43]
Choi, J.-S. ; Shin, J.-P. ; Lee, J.-B. ; Yoo, M.-H. ; Kong, J.-T.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634918-634918,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
4.

国際会議録
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4. Hybrid PPC methodology and implementation in the correction of etch proximity
Park, C.-H. ; Rhie, S.-U. ; Chio, S.-H. ; Kim, D.-H. ; Park, J.-S. ; Kim, Y.-H. ; Yoo, M.-H. ; Kong, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.369-376,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
5.

国際会議録
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5. Efficient mask data preparation for variable shaped e-beam writing system focusing on memory devices
Jang, T.H. ; Lee, J.-B. ; Shin, J.-P. ; Yoo, K.-J. ; Jung, D.-H. ; Park, Y.-H. ; Yoo, M.-H. ; Kong, J.-T.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.143-150,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
6.

国際会議録
国際会議録
6. Accurate gate CD control through the full-chip area using the dual model in the model-based OPC
Hong, J.-S. ; Park, C.-H. ; Kim, D.-H. ; Choi, S.-H. ; Ban, Y.-C. ; Kim, Y.-H. ; Yoo, M.-H. ; Kong, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.571-580,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
7.

国際会議録
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7. Simulation-based critical-area extraction and litho-friendly layout design for low-k1 lithography
Choi, S.-H. ; Ban, Y.-C. ; Lee, K.-H. ; Kim, D.-H. ; Hong, J.-S. ; Kim, Y.-H. ; Yoo, M.-H. ; Kong, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.713-720,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377