1.

国際会議録
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1. Improving model-based OPC performance for sub-60nm devices using real source optical model [6156-32]
Jung, S. ; Kim, I.-S. ; Kang, Y.-S. ; Yeo, G.-S. ; Woo, S.-G. ; Cho. H. ; Moon, K.-T.
出版情報: Design and process integration for microelectronic manufacturing IV : 23-24 February, 2006, San Jose, California, USA.  pp.61561H-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6156
2.

国際会議録
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2. Flare-induced CD variation correction using transmittance controlled mask
Nam, D.-S. ; Yeo, G.-S. ; Park, J.R. ; Choi, S.-W. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.561-569,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
3.

国際会議録
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3. Improvement of shot uniformity on a wafer by controlling backside transmittance distribution of a photomask
Park, J.R. ; Kim, S.H. ; Yeo, G.-S. ; Choi, S.-W. ; Ki, W.-T. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.553-560,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
4.

国際会議録
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4. Efffectiveness and confirmation of local area flare measurement method in various pattern layouts
Nam, D. ; Lee, E. ; Jung, S.-G. ; Kang, Y. ; Yeo, G.-S. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.57-66,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
5.

国際会議録
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5. Challenge for effective OCV control in 90-nm logic gate using ArF lithography
Kang, H.-J. ; Lee, S.-W. ; Lee, D.-Y. ; Yeo, G.-S. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part Two  pp.1194-1201,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
6.

国際会議録
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6. Attainable road to the lower-k1 extension using high-transmittance attenuated phase-shifting mask in the KrF lithography world
Kim, I.-S. ; Jung, S.-G. ; Kim, H.-D. ; Yeo, G.-S. ; Shin, I.-K. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Moon, J.-T.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.466-475,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
7.

国際会議録
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7. Assessments on process parameters' influences to the proximity correction
Lee, E.-M. ; Lee, S.-W. ; Lee, D.-Y. ; Choi, S.-H. ; Park, J.-O. ; Jung, S.-G. ; Yeo, G.-S. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XVIII.  pp.287-295,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5375
8.

国際会議録
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8. Realization of sub-80-nm small-space patterning in ArF photolithography
Kim, S.-H. ; Kim, H.-D. ; Lee, S.-H. ; Park, C.-M. ; Ryoo, M.-H. ; Yeo, G.-S. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S. ; Moon, J.-T.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.1082-1090,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
9.

国際会議録
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9. Investigation of stray light characteristic by multiple Gaussian modeling and its OPC application
Kim, H. ; Nam, D. ; Yeo, G.-S. ; Lee, S.-J. ; Woo, S.-G. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.459-462,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
10.

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10. Fulfillment of model-based OPC for contact patterns in 60-nm level logic device
Kim, S.-W. ; Lee, S.-W. ; Park, C.-M. ; Choi, S.-H. ; Lee, Y.-M. ; Kang, Y. ; Yeo, G.-S. ; Lee, J.-H. ; Cho, H.-K. ; Han, W.-S.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1157-1164,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377