1.

国際会議録
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1. 0.13-ｦﾌm optical lithography for random logic devices using 248-nm attenuated phase-shifting masks
Chen,Y.T. ; Lin,C.H. ; Lin,H.T. ; Hsieh,H.C. ; Yu,S.S. ; Yen,A.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.99-110,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
2.

国際会議録
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2. Combination of OPC and AttPSM for patterning sub-0.18-ｦﾌm logic devices
Kuo,H.J. ; Lin,C.H. ; Tzu,S.D. ; Yen,A.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.435-445,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
3.

国際会議録
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3. Sub-0.18-ｦﾌm line/space lithography using 248-nm scanners and assisting feature OPC masks
Lin,H.T. ; Lin,J.C.H. ; Chiu,C.S.G. ; Wang,Y.Y. ; Yen,A.
出版情報: 19th Annual Symposium on Photomask Technology : 15-17 September 1999, Monterey, California.  Part1  pp.307-315,  1999.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3873
4.

国際会議録
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4. Study of pupil filters for depth of focus enhancement in printing contact holes
Wang,C.-M. ; Yu,S.-S. ; Yen,A.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part2  pp.783-791,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
5.

国際会議録
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5. Characterization and optimization of CD control for 0.25-ｦﾌm CMOS applications
Ronse,K. ; Beeck,M.Opde ; Yen,A. ; Kim,K.-H. ; hove,L.Van den
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.555-563,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
6.

国際会議録
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6. Optical proximity effects correction at 0.25ｦﾌm incorporating process variations in lithography
Tritchkov,A. ; Rieger,M.L. ; Stirniman,J.P. ; Yen,A. ; Ronse,K. ; Vandenberghe,G. ; hove,L.Van den
出版情報: Optical Microlithography X.  pp.726-738,  1997.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3051
7.

国際会議録
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7. Optical proximity effects and correction strategies for chemical-amplified DUV resists
Beeck,M.Op de ; Bruggeman,B. ; Botermans,H. ; Driessche,V.Van ; Yen,A. ; Tritchkov,A. ; Jonckheere,R. ; Ronse,K. ; hove,L.Van den
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part2  pp.622-633,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726
8.

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8. Trench pattern lithography for 0.13- and 0.10-μm logic devices at 248- and 193-nm wavelengths
Wang,Y.-Y. ; Lin,H.-T. ; Yu,S.-S. ; Chen,C.-K. ; Ku,Y.-C. ; Yen,A. ; Lin,B.J.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.276-292,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
9.

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9. Printing 0.13-μm contact holes using 193-nm attenuated phase-shifting masks
Wang,C.-M.A. ; Lin,S.-J. ; Lin,C.-H. ; Ku,Y.-C. ; Yen,A.
出版情報: 20th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.275-286,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4186
10.

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10. Top-surface imaging and optical proximity correction:a way to 0.18-ｦﾌm lithography at 248 nm
Goethals,A.M. ; Vertommen,J. ; Roey,F.Van ; Yen,A. ; Tritchkov,A. ; Ronse,K. ; Jonckheere,R. ; hove,L.Van den
出版情報: Optical Microlithography IX.  Part1  pp.362-374,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2726