1.

国際会議録

国際会議録
Lee, M. K. ; Yedur, S. ; Hetzer, D. ; Tavassoli, M. ; Baik, K.
出版情報: EMLC 2006 : 22nd European Mask and Lithography Conference : 23-26 January 2006, Dresden, Germany.  pp.62810Z-,  2006.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6281
2.

国際会議録

国際会議録
Lee, K. ; Yedur, S. ; Cheng, W. ; Tovassoli, M. ; Baik, K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.628313-628313,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
3.

国際会議録

国際会議録
Lee, K. M. ; Yedur, S. ; Tabet, M. ; Tavassoli, M.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59921I-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
4.

国際会議録

国際会議録
Yedur, S. ; Vuong, V. ; Shivaprasad, D. ; Sarathy, T. P. ; Tabet, M. ; Korlahalli, R. ; Hu, J.
出版情報: 25th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.59924I-,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5992
5.

国際会議録

国際会議録
Lee, K. M. ; Yedur, S. ; Henrichs, S. ; Tavassoli, M.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61521P-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
6.

国際会議録

国際会議録
Lee, K. ; Yedur, S. ; Tavassoli, M. ; Baik, K. ; Tabet, M.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63490M-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
7.

国際会議録

国際会議録
Cho, S. ; Yedur, S. ; Kwon, M. ; Tabet, M.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63492I-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349