1.

国際会議録
国際会議録
1. Integration considerations for 130-nm device patterning using ArF lithography
Okoroanyanwu,U. ; Levinson,H.J. ; Yang,C.-Y. ; Pangrle,S.K. ; Schefske,J.A. ; Kent,E.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.423-434,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
2.

国際会議録
国際会議録
2. Color reproduction system based on color appearance model and gamut mapping
Cheng,F.-H. ; Yang,C.-Y.
出版情報: Input/Output and Imaging Technolgies II.  pp.167-178,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4080