1.

国際会議録
国際会議録
1. Thermal Stability of Electrodeposited Copper Interconnect with Low-K Films
Lee, S. ; Lee, K.-W. ; Yang, S.-H. ; Kim, Y.-A. ; Oh, K. ; Park, J.-W.
出版情報: Low and High Dielectric Constant Materials : Materials Science, Processing, and Reliability Issues, proceedings of the fourth International Symposium and Thin Film Materials for Advanced Packaging Technologies : proceedings of the second International Symposium.  pp.69-78,  1999.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-7
2.

国際会議録
国際会議録
2. *METASTABLE NON-EQUILIBRIUM CONDUCTANCE STATES IN DOPING-MODULATED a-Si:H MULTILAYERS
Fritzsche, H. ; Yang, S.-H. ; Takada, J.
出版情報: Amorphous silicon technology : symposium held April 5-8, 1988, Reno, Nevada, U.S.A..  pp.275-284,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 118
3.

国際会議録
国際会議録
3. A New Local Electronic Stopping Model for the Monte Carlo Simulation of Arsenic Ion Implantation into (100) Single-Crystal Silicon
Yang, S.-H. ; Morris, S. ; Tian, S. ; Parab, K. ; Tasch, A. F. ; Echenique, P. M. ; Capaz, R. ; Joannopoulos, J.
出版情報: Modeling and simulation of thin-film processing : symposium held April 17-20, 1995, San Francisco, California, U.S.A..  pp.77-,  1995.  Pittsburgh.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 389
4.

国際会議録
国際会議録
4. An Accurate Monte Carlo Binary Collision Model for BF2 Implants into (100) Single-Crystal Silicon
Yang, S.-H. ; Morris, S. ; Tian, S. ; Morris, M. ; Parab, K. ; Obradovich, B. ; Tasch, A.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Process Physics and Modeling in Semiconductor Technology.  pp.481-495,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-4
5.

国際会議録
国際会議録
5. A Two-Dimensional, Accurate and Computationally Efficient Model for Boron Implantation through Oxide Layers into Silicon
Morris, S. ; Lim, D. ; Yang, S.-H. ; Tian, S. ; Parab, K. ; Tasch, A.F.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Process Physics and Modeling in Semiconductor Technology.  pp.468-480,  1996.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-4
6.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
6. Application of Beam Splitters and Position Sensing Detectors to Measure Five-Degree-of-Freedom Geometric Errors with Miniaturized Linear Motion Stage
Wang, W. ; Kweon, S.-H. ; Lee, J.-H. ; Yang, S.-H.
出版情報: S.M.E. technical paper.  2006.  Dearborn, Mich..  Society of Manufacturing Engineers
シリーズ名: SME Technical Paper : TP
シリーズ巻号: 2006
7.

国際会議録
国際会議録
7. Experimental investigation of photomask with near-field polarization imaging [6349-196]
Chen, T. ; Milster, T. D. ; Yang, S.-H.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.634953-634953,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349
8.

国際会議録
国際会議録
8. Analytical approach to X-phenomenon in alternating phase-shifting masks
Park, J.R. ; Kim, S.-H. ; Lee, H.-J. ; Jang, I.-Y. ; Choi, Y.-H. ; Yang, S.-H. ; Lee, Y.-H. ; Kim, Y.-H. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1209-1216,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
9.

国際会議録
国際会議録
9. Fogging effect consideration in mask process at 50-KeV e-beam systems
Yang, S.-H. ; Choi, Y.-H. ; Park, J.-R. ; Kim, Y.-H. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.786-791,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
10.

国際会議録
国際会議録
10. Simple method for separating and evaluating origins of a side error in mask CD uniformity: photomask blanks and mask-making processes
Choi, Y.-H. ; Park, J.R. ; Sung, M.-G. ; Yang, S.-H. ; Kim, S.-H. ; Lee, H.-J. ; Lee, J.-Y. ; Jang, I.Y. ; Kim, Y.H. ; Choi, S.-W. ; Yoon, H.-S. ; Sohn, J.-M.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.819-825,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889