1.

国際会議録
国際会議録
1. Study on LOCOS isolation for short channel SOI MOSFETs
lwamatsu, T ; Miyamoto, S ; Yamaguchi, Y ; Ipposhi, T ; Inoue, Y ; Miyoshi, H
出版情報: Proceedings of the Seventh International Symposium on Silicon-on-Insulator Technology and Devices.  pp.318-323,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-3
2.

国際会議録
国際会議録
2. Transient effects of SOI transistors in circuit operation
Kim, I J ; Joachim, H-O ; Iwamatsu, T ; Yamaguchi, Y ; Inoue, Y ; Eikyu, K ; Ishikawo, K ; Uedo, K ; Morinaka, H ; Mashiko, K ; Miyoshi, H
出版情報: Proceedings of the Seventh International Symposium on Silicon-on-Insulator Technology and Devices.  pp.397-405,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 96-3
3.

国際会議録
国際会議録
3. Direct Observation of Floating Body Effect in SOI MOS FET Using Nuclear Microprobe
Thkai, M ; Nakayama, N ; Takaoka, H ; Iwamatsu, T ; Yamaguchi, Y ; Maegawa, S ; Nishimura, T ; Horino, A Kinomura andY
出版情報: Proceedings of the Ninth International Symposium on Silicon-on-Insulator Technology and Devices.  pp.305-310,  1999.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-3
4.

国際会議録
国際会議録
4. Application of high-refractive index fluid to KrF-immersion lithography [6153-70]
Yada, Y ; Ito, K ; Yamaguchi, Y ; Furukawa, T ; Miyamatsu, T ; Wang, Y ; Hieda, K ; Shimokawa, T
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXIII.  pp.61531W-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6153