1.

国際会議録
国際会議録
1. Polymers for 157-nm photoresist applications:a progress report
Patterson,K. ; Yamachika,M. ; Hung,R. ; Brodsky,C.J. ; Yamada,S. ; Somervell,M.H. ; Osborn,B. ; Hall,D. ; Dukovic,G. ; Byers,J.D. ; Conley,W.E. ; Willson,C.G.
出版情報: Advances in resist technology and processing XVII : 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.365-374,  2000.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3999
2.

国際会議録
国際会議録
2. SCAA mask exposures and Phase Phirst designs for 100 nm and below
Levenson,M.D. ; Ebihara,T. ; Yamachika,M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.817-826,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346