1.

国際会議録
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1. Alternating phase-shift mask and binary mask for 45-nm node and beyond: the impact on the mask error control
Y. Kojima ; M. Shirasaki ; K. Chiba ; T. Tanaka ; Y. Inazuki ; H. Yoshikawa ; S. Okazaki ; K. Iwase ; K. Ishikawa ; K. Ozawa
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
2.

国際会議録
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2. Analysis of diffraction orders including mask topography effects for OPC optimization
Y. Inazuki ; N. Toyama ; T. Adachi ; T. Nagai ; T. Suto ; Y. Morikawa ; H. Mohri ; N. Hayashi
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
3.

国際会議録
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3. Pupil plane analysis on AIMS 45-193i for advanced photomasks
Y. Morikawa ; T. Sutou ; K. Mesuda ; T. Nagai ; Y. Inazuki ; T. Adachi ; N. Toyama ; H. Mohri ; N. Hayashi ; U. Stroessner ; R. Birkner ; R. Richter ; T. Scheruebl
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
4.

国際会議録
国際会議録
4. Extendibility of single mask exposure for practical ArF immersion lithography
T. Adachi ; Y. Inazuki ; T. Sutou ; T. Nagai ; N. Toyama ; Y. Morikawa ; H. Mohri ; N. Hayashi
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
5.

国際会議録
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5. Approach to analyze decomposition impact for photomask fabrication
N. Toyama ; T. Adachi ; Y. Inazuki ; T. Sutou ; T. Nagai ; Y. Morikawa ; H. Mohri ; N. Hayashi
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
6.

国際会議録
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6. Characteristics optimization of mask materials for hyper-NA lithography
Y. Morikawa ; T. Suto ; T. Nagai ; Y. Inazuki ; T. Adachi ; Y. Kitahata ; T. Yokoyama ; N. Toyama ; H. Mohri ; N. Hayashi
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
7.

国際会議録
国際会議録
7. Mask CD compensation method using diffraction intensity for lithography equivalent metrology
T. Nagai ; T. Sutou ; Y. Inazuki ; H. Hashimoto ; N. Toyama
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XV.  1  pp.70281M-1-70281M-10,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7028
8.

国際会議録
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8. Development status of back-end process for UV-NIL template fabrication
Y. Inazuki ; K. Itoh ; S. Hatakeyama ; K. Kojima ; M. Kurihara
出版情報: Photomask technology 2008.  2  pp.71223Q-1-71223Q-8,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7122
9.

国際会議録
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9. DPL performance analysis strategy with conventional workflow
N. Toyama ; Y. Inazuki ; T. Sutou ; T. Nagai ; Y. Morikawa
出版情報: Photomask technology 2007.  1  pp.67301I-1-67301I-10,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730
10.

国際会議録
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10. Estimating DPL photomask fabrication load compared with single exposure
N. Toyama ; Y. Inazuki ; T. Sutou ; T. Nagai ; Y. Morikawa
出版情報: Photomask technology 2007.  1  pp.67301J-1-67301J-10,  2007.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6730