1.

国際会議録
国際会議録
1. Statistical analysis of CD-SEM measurement and process control in the indistinguishable multi-process patterns [6152-100]
Yang, D. S. ; Jung, M. H. ; Lee, Y. M. ; Koh, C. W. ; Yeo, G. S. ; Woo, S. G. ; Cho, H. K. ; Moon, J. T.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61522K-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
2.

国際会議録
国際会議録
2. Defect inspection of EUVmask blank using confocal microscopy: simulation and experiment [6151-49]
Kim, S. S. ; Park, J. ; Chalykh, R. ; Kang, J. ; Lee, S. ; Woo, S. G. ; Cho, H. K. ; Moon, J. T.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies X.  pp.61511C-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6151
3.

国際会議録
国際会議録
3. Investigation on polarization monitoring mask: pattern design and experimental verification [6152-60]
Hwang, C. ; Park, D. W. ; Shin, J. H. ; Nam, D. S. ; Lee, S. J ; Woo, S. G. ; Cho, H. K. ; Moon, J. T.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61521M-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152
4.

国際会議録
国際会議録
4. Macro analysis of line edge and line width roughness [6152-33]
Shin, J. ; Yoon, J. ; Jung, Y. ; Lee, S. ; Woo, S. G. ; Cho, H. -K. ; Moon, J. -T.
出版情報: Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography XX.  pp.61520X-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6152