1.

国際会議録
国際会議録
1. MODELLING OF CRYSTAL ORIGINATED PARTICLES AND THEIR IMPACT ON GATE OXIDE INTEGRITY
Bearda, T. ; Mertens, P.W. ; Woerlee, P.H. ; Wallinga, H. ; Sebmolke, R. ; Heyns, M.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.528-539,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2
2.

国際会議録
国際会議録
2. Shallow Junction Fabrication by Rapid Thermal Outdiffusion from Implanted Oxide
Schmirz, I. ; van Gestel, M. ; Stolk, P.A. ; Pononarev, Y.V. ; Roozeboo, F. ; Cohayncs, F.N. ; van Berkum, I.G.M. ; van de Wijgert, W.M. ; Zahn, P.C. ; Woerlee, P.H.
出版情報: Advances in rapid thermal processing : proceedings of the symposium.  pp.187-194,  1999.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-10
3.

国際会議録
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3. Transient Enhanced Diffusion and Ostwald Ripening of Ion-Implantation Generated Defects in Silicon
Cowern, N.E.B. ; Mannino, G. ; Roozeboom, F. ; Stalk, P.A. ; Huizing, H.G.A. ; van Berkum, J.G.M ; Toan, N.N. ; Woerlee, P.H. ; Cristiano, F. ; Claverie, A.
出版情報: Advances in rapid thermal processing : proceedings of the symposium.  pp.125-132,  1999.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-10
4.

国際会議録
国際会議録
4. MODELLING OF CRYSTAL ORIGINATED PARTICLES AND THEIR IMPACT ON GATE OXIDE INTEGRITY
Bearda, T. ; Mertens, P.W. ; Woerlee, P.H. ; Wallinga, H. ; Sebmolke, R. ; Heyns, M.
出版情報: Semiconductor silicon 2002 : proceedings of the ninth International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.528-539,  2002.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2002-2