1.

国際会議録
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1. Fundamental Issues in Rapid Thermal Annealing (RTA), Spike RTA and Excimer Laser Annealing (ELA) for the Formation of Shallow p+/n Junctions
Chong, Y.F. ; Pey, K.L. ; Wee, A.T.S. ; See, A. ; Tung, C.H. ; Lu, Y.F.
出版情報: Rapid thermal and other short-time processing technologies II : proceedings of the international symposium.  pp.311-320,  2001.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-9
2.

国際会議録
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2. THE ADSORPTION AND DECOMPOSITION OF GALLANE ADDUCTS ON GaAs(100)
Foord, J.S. ; Wee, A.T.S. ; Singh, N.K. ; Whitaker, T.J. ; O’Hare, D.
出版情報: Chemical perspectives of microelectric materials III : symposium held November 30-December 3, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.27-32,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 282
3.

国際会議録
国際会議録
3. Defects and Surfactant Action of Antimony on GaAs and GaAs1-xNx on GaAs [100] by Molecular Beam Epitaxy
Cheah, W.K. ; Fan, W.J. ; Yoon, S.F. ; Wicaksono, S. ; Liu, R. ; Wee, A.T.S.
出版情報: Progress in compound semiconductor materials -- electronic and optoelectronic applications.  pp.51-58,  2004.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 799
4.

国際会議録
国際会議録
4. Growth of Co Nanoclusters on SiC Honeycomb Templates
Chen, Wei ; Loh, Kian Ping ; Xu, Hai ; Wee, A.T.S.
出版情報: Nanoparticles and nanowire buildings blocks--synthesis, processing, characterization and theory : symposium held April 13-16, 2004, San Francisco, California, U.S.A..  pp.75-82,  2004.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 818
5.

国際会議録
国際会議録
5. The Interaction of C60 With Si(111) and Co/Si(111)
Zilani, M.A.K. ; Xu, H. ; Wang, X.S. ; Wee, A.T.S.
出版情報: Silicon carbide 2004--materials, processing and devices : symposium held April 14-15, 2004, San Francisco, California, U.S.A..  pp.149-156,  2004.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 815
6.

国際会議録
国際会議録
6. Study Of Ta As A Diffusion Barrier In Cu/SiO2 Structure
Pan, J.S. ; Wee, A.T.S. ; Huan, C.H.A. ; Chai, J.W. ; Zhang, J.H.
出版情報: Materials, technology and reliability for advanced interconnects and low-k dielectrics : symposium held April 23-27, 2000, San Francisco, California, U.S.A..  pp.D9.18-,  2001.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 612
7.

国際会議録
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7. Effects Of A Thin Flash Copper Layer On The Diffusion Of Cu, Ta, Si, And O In The Cu/TaN/SiO2/Si Structures
Loh, S.W. ; Zhang, D.H. ; Li, C.Y. ; Liu, R. ; Wee, A.T.S. ; Foo, P.D. ; Xie, Joseph ; Prasad, K. ; Tan, C.M. ; Lee, Y.K.
出版情報: Semiconductor technology (ISTC 2001) : proceedings of the 1st International Conference on Semiconductor Technology.  pp.116-122,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-17