1.

国際会議録
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1. Design and use of multivariate approach error analysis APC system [6155-06]
de Caunes, J. ; Van-Herk, J. ; Warrick, S. ; Le Gratiet, B. ; Mikolajczak, M. ; Chapon, J.-D. ; Monget, C. ; Gemmink, J.-W.
出版情報: Data analysis and modeling for process control III : 23 February, 2006, San Jose, California, USA.  pp.615507-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6155
2.

国際会議録
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2. A methodology for the characterization of topography induced immersion bubble defects
Warrick, S. ; Hinnen, P. ; Morton, R. ; Cooper, K. ; Sassoulas, P.-O. ; Depre, J. ; Navarro, R. ; van Haren, R. ; Browning, C. ; Reber, D. ; Megens, H.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.154-163,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
3.

国際会議録
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3. Resist component leaching in 193-nm immersion lithography
Chapon, J.-D. ; Chaton, C. ; Gouraud, P. ; Broekaart, M. ; Warrick, S. ; Guilmeau, I. ; Trauiller, Y. ; Belledent, J.
出版情報: Advances in resist technology and processing XXII : 28 February-2 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.95-101,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5753(1)
4.

国際会議録
国際会議録
4. Assessment of complementary double dipole lithography for 45 nm and 32 nm technologies
Postnikov, S. V. ; Robert, E. ; Thony, P. ; Patterson, K. ; Warrick, S. ; Henry, D. ; Torres, A. ; Toublon, O.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.1478-1484,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
5.

国際会議録
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5. Assessment of 5-pole illumination for 65nm-node contact holes
Weisbuch, F. ; Warrick, S. ; Conley, W. ; Depre, J.
出版情報: Optical microlithography XVIII : 1-4 March, 2005, San Jose, California, USA.  pp.1405-1416,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5754
6.

国際会議録
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6. Immersion lithography robustness for the C065 node [6154-07]
Warrick, S. ; Morton, R. ; Mauri, A. ; Chapon, J. D ; Belledent, J. ; Conley, W. ; Barr, A. ; Lucas, K. ; Monget, C. ; Plantier, V. ; Cruau, D. ; Gomez, J.-M. ; Sicurani, E ; Gemmink, J-W.
出版情報: Optical Microlithography XIX.  pp.615407-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6154
7.

国際会議録
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7. Optical issues of thin organic pellicles in 45-nm and 32-nm immersion lithography [6349-20]
Lucas, K. ; Gordon, J. S. ; Conley, W. ; Saied, M. ; Warrick, S. ; Pochkowski, M. ; Smith, M. D. ; West, C. ; Kalk, F. ; Kuijten, J. P.
出版情報: Photomask Technology 2006.  pp.63490K-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6349