1.

国際会議録
国際会議録
1. Chemical Mechanical Polishing of SiCOH-Based Low-k Dielectrics
W. Tseng ; A. Sakamoto ; S. Ponoth ; D. Hong ; L. Economikos ; S. Vogt ; A. Ticknor ; S. Cohen ; M. Krishnan ; R. Wanner ; B. Kim
出版情報: Dielectrics for nanosystems II: materials science, processing, reliability, and manufacturing.  pp.227-236,  2006.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 2(1)
2.

国際会議録
国際会議録
2. Evaluation of Barrier CMP Slurries and Characterization of ULK Material Properties Shifts Due to CMP
W. Tseng ; D. Kioussis ; S.L. Manikonda ; H. Kim ; J. Choi
出版情報: Dielectrics for nanosystems 3: materials science, processing, reliability, and manufacturing.  pp.293-306,  2008.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 13(2)
3.

国際会議録
国際会議録
3. Microcantilever with Carboxyl-Functionalization for Mercury Ion Detection
Y. Chou ; W. Tseng ; C. Wu ; T. Lee ; S. Lai
出版情報: Chemical Sensors 8 : chemical (gas, ion ,bio) sensors and analytical systems.  pp.143-146,  2008.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: ECS transactions
シリーズ巻号: 16(11)