1.

国際会議録
国際会議録
1. Metrology challenges of double exposure and double patterning
W. H. Arnold ; M. Dusa ; J. Flinders
出版情報: Metrology, inspection, and process control for microlithography XXI.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6518
2.

国際会議録
国際会議録
2. Toward 3nm overlay and critical dimension uniformity: an integrated error budget for double patterning lithography
W. H. Arnold
出版情報: Optical Microlithography XXI.  1  pp.692404-1-692404-9,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924