1.

国際会議録
国際会議録
1. *APPLICATIONS OF AMORPHOUS Ti-P-N DIFFUSION BARRIERS IN SILICON METALLIZATION
Kolawa, E. ; Halperin, L. ; Pokela, P. ; Vu, Quat T. ; Nieh, C. W.
出版情報: Advanced metallizations in microelectronics : symposium held April 16-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.33-40,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 181
2.

国際会議録
国際会議録
2. CHARACTERIZATION OF THE Al/RuO2 INTERFACE UPON THERMAL ANNEALING
Vu, Quat T. ; Kolawa, E. ; Nicolet, M. -A.
出版情報: Advanced metallizations in microelectronics : symposium held April 16-20, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.531-536,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 181
3.

国際会議録
国際会議録
3. INVESTIGATIONS OF CuInSe2 THIN FILMS AND CONTACT
Raud, S. ; Vu, Quat T. ; Nicolet, M. -A. ; Pollock, G. A. ; Mitchell, K. W. ; Leavitt, K. W. ; Ashbaugh, M. D. ; McIntyre, L. C.
出版情報: Thin film structures and phase stability : symposium held April 16-17, 1990, San Francisco, California, U.S.A..  pp.101-106,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 187