1.

国際会議録
国際会議録
1. Status of ArF lithography for the 130-nm technology node
Ronse,K. ; Vandenberghe,G. ; Jaenen,P. ; Delvaux,C. ; Vangoidsenhoven,D. ; Roey,F.Van ; Pollers,I. ; Maenhoudt,M. ; Goethals,A.M. ; Pollentier,I.K. ; Vleeming,B. ; Schenau,K.van lngen ; Heskamp,B. ; Davies,G. ; Niroomand,A.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.410-422,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
2.

国際会議録
国際会議録
2. ArF step-and-scan system with 0.75 NA for the 0.10-μm node
Vleeming,B. ; Heskamp,B. ; Bakker,H. ; Verstappen,L. ; Finders,J. ; Stoeten,J. ; Borret,R. ; Roempp,O.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.634-650,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
3.

国際会議録
国際会議録
3. ArF lithography options for 100-nm technologies
Vandenberghe,G.N. ; Kim,Y.-C. ; Delvaux,C. ; Lucas,K.D. ; Choi,S.-J. ; Ercken,M. ; Ronse,K. ; Vleeming,B.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.179-190,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
4.

国際会議録
国際会議録
4. Process optimization for sub-100-nm gate patterns using phase edge lithography
Schenau,K.van Ingen ; Vleeming,B. ; Ansem,W.F.Gehoel-van ; Wong,P. ; Vandenberghe,G.N.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XVIII.  4345  pp.200-210,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4345