1.

国際会議録
国際会議録
1. Mechanistic Study of Dielectric Chemical Mechanical Polishing by Spectral and Scaling Analysis of Atomic Force Microscope Images
Verhoff, M.
出版情報: Chemical mechanical planariarization in IC device manufacturing III : proceedings of the international symposium.  pp.239-260,  1999.  Pennington, N. J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-37
2.

国際会議録
国際会議録
2. Simulation of Shape Evolution During Electrodeposition of Copper in the Presence of Additives
Veyret, D. ; Georgiadou, M. ; Sani, R.L. ; Verhoff, M. ; Alkire, R.C.
出版情報: Fundamental aspects of electrochemical deposition and dissolution : proceedings of the international symposium.  pp.405-412,  1999.  Pennington, New Jersey.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 99-33