1.

国際会議録
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1. THE EFFECT OF H2 ANNEALING ON THE Si SURFACE AND ITS USE IN THE STUDY OF ROUGHENING DURING WET CHEMICAL CLEANING
Verhaverbeke, S. ; Futatsuki, T. ; Messoussi, R. ; Ohmi, T.
出版情報: Proceedings of the Seventh International Symposium on Silicon Materials Science and Technology.  pp.1170-1181,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-10
2.

国際会議録
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2. SILICON SURFACE ROUGHENING BY THE DECOMPOSITION OF HYDROGEN PEROXIDE
Mertens, P.W. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.M. ; Hellemans, L. ; Snauwaert, J. ; Dillenbeck, K.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.102-110,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
3.

国際会議録
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3. THE RELATION BETWEEN SODIUM AND ALUMINUM CONTAMINATION AND DIELECTRIC BREAKDOWN IN MOS STRUCTURES
Verneire, B. ; Rotondaro, A.L.P. ; Mertens, P.W. ; Verhaverbeke, S. ; Heyns, M.M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.58-64,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
4.

国際会議録
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4. A NEW CLEANING CONCEPT FOR PARTICLE AND METAL REMOVAL ON Si SURFACES
Meuris, M. ; Verhaverbeke, S. ; Mertens, P.W. ; Schmidt, H.F. ; Rotondaro, A.L.P. ; Heyns, M.M. ; Philipossian, A.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.15-25,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
5.

国際会議録
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5. MODELLING OF THE HYDROGEN PASSIVATION KINETICS OF Si IN DILUTE HF SOLUTIONS
Verhaverbeke, S. ; Meuris, M. ; Schmidt, H. ; Mertens, P. ; Heyns, M.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.176-185,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
6.

国際会議録
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6. THE ROLE OF THE PEROXIDE ANION AS AN OXIDIZER IN SC-1 SOLUTIONS
Verhaverbeke, S. ; Parker, J.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.184-192,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
7.

国際会議録
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7. ENGINEERING TOOLS FOR DESIGNING A METALLIC REMOVAL SOLUTION
Verhaverbeke, S.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.87-90,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26
8.

国際会議録
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8. A STUDY OF METALLIC CONTAMINANTION REMOVAL AND ADDITION USING MODIFIED SC-I SOLUTIONS
Beaudry, C. ; Morinaga, H. ; Verhaverbeke, S.
出版情報: Cleaning technology semiconductor device manufacturing : proceedings of the seventh international symposium.  pp.118-125,  2001.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2001-26
9.

国際会議録
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9. AQUEOUS SINGLE PASS SINGLE WAFER AI/VIA CLEANING
Verhaverbeke, S. ; Beaudry, C. ; Boelen, P.
出版情報: Cleaning technology in semiconductor device manufacturing VIII : proceedings of the international symposium.  pp.23-26,  2003.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2003-26
10.

国際会議録
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10. ALTERNATIVE METHODS FOR RESIST STRIPPING
Wei, J. ; Verhaverbeke, S.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.496-504,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35