1.

国際会議録
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1. Feasibility of printing 0.1-ｦﾌm technology with optical lithography
Maenhoudt,M. ; Verhaegen,S. ; Ronse,K. ; Flagello,D.G. ; Geh,B. ; Kaiser,W.M.
出版情報: Optical microlithography XII : 17-19 March 1999, Santa Clara, California.  Part1  pp.347-357,  1999.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3679
2.

国際会議録
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2. Limits of optical lithography
Maenhoudt,M. ; Verhaegen,S. ; Ronse,K. ; Zandbergen,P. ; Muzio,E.G.
出版情報: Optical microlithography XIII : 1-3 March 2000, Santa Clara, USA.  Part1  pp.373-387,  2000.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4000
3.

国際会議録
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3. Model-based OPC for first-generation 193-nm lithography
Lucas,K.D. ; Word,J.C. ; Vandenberghe,G.N. ; Verhaegen,S. ; Jonckheere,R.M.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.119-130,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
4.

国際会議録
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4. CD control for two-dimensional features in future technology nodes
Verhaegen,S. ; Gordon,R.L. ; Jonckheere,R.M. ; McCallum,M. ; Ronse,K.
出版情報: Optical Microlithography XIV.  4346  pp.368-378,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4346
5.

国際会議録
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5. Reticle quality needs for advanced 193-nm lithography
Jonckheere,R.M. ; Vandenberghe,G.N. ; Wiaux,V. ; Verhaegen,S. ; Ronse,K.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology VIII.  pp.108-117,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4409
6.

国際会議録
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6. Challenge for sub-100-nm DRAM gate printing using ArF lithography with combination of moderate OAI and attPSM
Kim,Y.-C. ; Vandenberghe,G.N. ; Verhaegen,S. ; Ronse,K.
出版情報: 21st Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  4562  pp.954-967,  2001.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4562