1.

国際会議録
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1. Image enhancement through square illumination shaping
Smith, B.W. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1500-1503,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
2.

国際会議録
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2. High-NA ArF lithography for 70-nm technologies
Montgomery, P.K. ; Vandenberghe, G. ; Lucas, K.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1613-1624,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
3.

国際会議録
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3. AttPSM CD control: mask bias and flare effects
Kim. Y.-C. ; Vandenberghe, G. ; Ronse, K.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part Two  pp.1041-1053,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
4.

国際会議録
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4. Analysis of the impact of reticle CD variations on the available process windows for a 100-nm CMOS process
Verhaegen, S. ; Vandenberghe, G. ; Jonckheere, R.M. ; Ronse, K.G.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.197-208,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
5.

国際会議録
国際会議録
5. Optical extensions integration for a 0.314-μm2 45-nm node 6-transistor SRAM cell
Verhaegen, S. ; Nackaerts, A. ; Wiaux, V. ; Hendrickx, E. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Design and process integration for microelectronic manufacturing III : 3-4 March 2005, San Jose, California, USA.  pp.120-130,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5756
6.

国際会議録
国際会議録
6. Comparisons of 9% versus 6% transmission attenuated phase-shift mask for the 65-nm device mode
Montgomery, P.K. ; Lucas, K.D. ; Litt, L.C. ; Conley, W. ; Fanucchi, E. ; Van Wingerden, J. ; Vandenberghe, G. ; Wiaux, V. ; Taylor, D. ; Cangemi, M.J. ; Kasprowicz, B.
出版情報: 23rd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.814-825,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5256
7.

国際会議録
国際会議録
7. Assessment of OPC effectiveness using two-dimensional metrics
Wiaux, V. ; Philipsen, V. ; Jonckheere, R. ; Vandenberghe, G. ; Verhaegen, S. ; Hoffmann, T. ; Ronse, K. ; Howard, W.B. ; Maurer, W. ; Preil, M.E.
出版情報: Optical Microlithography XV.  Part One  pp.395-406,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4691
8.

国際会議録
国際会議録
8. Progress in 193nm immersion lithography at IMEC
Ronse, K. ; Vandenberghe, G. ; Hendrickx, E. ; Leunissen, L. H. A. ; Aksenov, Y.
出版情報: EMLC 2005 : 21st European Mask and Lithography Conference : 31 January-3 February, 2005, Dresden, Germany.  pp.6-12,  2005.  Bellingham, Wash.,.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5835
9.

国際会議録
国際会議録
9. Through-pitch low-k1 contact hole imaging with CPL technology
Wiaux, V. ; Bekaert, J. ; Chen, J.F. ; Hsu, S.D. ; Ronse, K.G. ; Socha, R.J. ; Vandenberghe, G. ; Van Den Broeke, D.J.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XI.  pp.585-594,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5446
10.

国際会議録
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10. A 65-nm node SRAM solution using alt-PSM with ArF lithography
Driessen, F.A. ; Zawadzki, M.T. ; Krishnan, P.R. ; Balasinski, A. ; Vandenberghe, G.
出版情報: Design and process integration for microelectronic manufacturing II [sic] : 26-27 February 2004, Santa Clara, California, USA.  pp.224-234,  2004.  Bellingham, Wash., USA.  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5379