1.

国際会議録
国際会議録
1. INFLUENCE OF ION ENERGY IN PLASMA DEPOSITION OF a-SiO2 FILMS
Vallier, L. ; Joubert, O. ; Burke, R. ; Ferrieu, F. ; Devine, R.A.B.
出版情報: Amorphous insulating thin films : symposium held December 1-4, 1992, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.193-196,  1993.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 284
2.

国際会議録
国際会議録
2. In-Situ Study of the Perturbed Layer Formed During Silicon Etching in Cl2 and HBr Low-Pressure, High Density Plasmas
Vallon, S. ; Vallier, L.
出版情報: Proceedings of the Second International Symposium on Process Control, Diagnostics, and Modeling in Semiconductor Manufacturing.  pp.168-175,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-9
3.

国際会議録
国際会議録
3. All Dry CVD-Based Resist for Advanced Lithography Processes
Monget, C. ; Joubert, O. ; Vallier, L. ; Weidman, T.W.
出版情報: Plasma processing XIII : proceedings of the international symposium.  pp.58-71,  2000.  Pennington, N.J..  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 2000-6
4.

国際会議録
国際会議録
4. SILICON HOMOEPITAXY AT LOW TEMPERATURE USING MICROWAVE MULTIPOLAR PLASMA FOR CLEANING AND DEPOSITION
Burke, R. ; Guillermet, M. ; Vallier, L. ; Voisin, E.
出版情報: Processing and characterization of materials using ion beams : symposium held November 28-December 2, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.291-296,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 128
5.

国際会議録
国際会議録
5. Tailoring of the Nitrogen Profile in Thin Gate Oxides Using Substrate Nitridation by Nitric Oxide
Halimaoui, A. ; Henrisey, E. ; Hernandez, C. ; Martins, J. ; Paoli, M. ; Regache, M. ; Vallier, L. ; Bensahel, D. ; Blanchard, B. ; Rouchon, D. ; Martin, F.
出版情報: Silicon front-end technology--materials processing and modelling, symposium held April 13-15, 1998, San Francisco, California, U.S.A..  pp.159-,  1998.  Warrendale, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 532