1.

国際会議録
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1. ARC stack development for hyper-NA imaging
V. Farys ; S. Warrick ; C. Chaton ; J. Chapon
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
2.

国際会議録
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2. Three-dimensional mask effects and source polarization impact on OPC model accuracy and process window
M. Saied ; F. Foussadier ; J. Belledent ; Y. Trouiller ; I. Schanen ; C. Gardin ; J. C. Urbani ; P. K. Montgomery ; F. Sundermann ; F. Robert ; C. Couderc ; F. Vautrin ; G. Kerrien ; J. Planchot ; E. Yesilada ; C. Martinelli ; B. Wilkinson ; A. Borjon ; L. Le-Cam ; J. L. Di-Maria ; Y. Rody ; N. Morgana ; V. Farys
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
3.

国際会議録
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3. Integrating immersion lithography in 45-nm logic manufacturing
M. Benndorf ; S. Warrick ; W. Conley ; D. Cruau ; D. DeSimone ; K. Mestadi ; V. Farys ; J. Gemmink
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
4.

国際会議録
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4. 32-nm SOC printing with double patterning, regular design, and 1.2 NA immersion scanner
Y. Trouiller ; V. Farys ; A. Borjon ; J. Belledent ; C. Couderc ; F. Sundermann ; J. Urbani ; Y. Rody ; C. Gardin ; J. Planchot ; W. Conley ; P. Goirand ; S. Warrick ; F. Robert ; G. Kerrien ; F. Vautrin ; B. Wilkinson ; M. Saied ; E. Yesilada ; P. Montgomery ; L. L. Cam ; C. Martinelli
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
5.

国際会議録
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5. Extending immersion lithography to the 32-nm node
S. Warrick ; W. Conley ; V. Farys ; M. Benndorf ; J. Gemmink ; Y. Trouiller ; J. Belledent ; D. Jovanovic ; P. Gouraud
出版情報: Optical microlithography XX.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6520
6.

国際会議録
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6. Characterization of inverse SRAF for active layer trenches on 45-nm node
J. -C. Urbani ; J. -D. Chapon ; J. Belledent ; A. Borjon ; C. Couderc ; J. -L. Di-Maria ; V. Farys ; F. Foussadier ; C. Gardin ; G. Kerrien ; L. LeCam ; C. Martinelli ; P. Montgomery ; N. Morgana ; J. Planchot ; F. Robert ; Y. Rody ; M. Saied ; F. Sundermann ; Y. Trouiller ; F. Vautrin ; B. Wilkinson ; E. Yesilada
出版情報: Photomask and next-generation lithography mask technology XIV.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6607
7.

国際会議録
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7. Investigation on immersion defectivity root cause
V. Farys ; S. Gaugiran ; D. Cruau ; K. Mestadi ; S. Warrick ; M. Benndorf ; R. Feilleux ; C. Sourd
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
8.

国際会議録
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8. OPC structures for maskshops qualification for the CMOS65nm and CMOS45nm nodes
F. Sundermann ; Y. Trouiller ; J. Urbani ; C. Couderc ; J. Belledent ; A. Borjon ; F. Foussadier ; C. Gardin ; L. LeCam ; Y. Rody ; M. Saied ; E. Yesilada ; C. Martinelli ; B. Wilkinson ; F. Vautrin ; N. Morgana ; F. Robert ; P. Montgomery ; G. Kerrien ; J. Planchot ; V. Farys ; J. D. Maria
出版情報: EMLC 2007 : 23rd european mask and lithography conference : 22-25 January 2007, Grenoble, France.  2007.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6533
9.

国際会議録
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9. Study of SRAF placement for contact at 45 nm and 32 nm node
V. Farys ; F. Robert ; C. Martinelli ; Y. Trouiller ; F. Sundermann
出版情報: Optical Microlithography XXI.  2  pp.69242Z-1-69242Z-7,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6924
10.

国際会議録
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10. The CD metrology perspectives and future trends
J. Foucher ; E. Pargon ; M. Martin ; V. Farys ; S. Bécu
出版情報: Lithography Asia 2008.  1  pp.71400F-1-71400F-13,  2008.  Bellingham, Wash..  Society of Photo-optical Instrumentation Engineers
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 7140