1.

国際会議録
国際会議録
1. Field Test of a Brine Polishing Filter
Usui, Y. ; Kurahashi, Y. ; Yagishita, K. ; Hine, F.
出版情報: Proceedings of the Douglas N. Bennion Memorial Symposium : topics in electrochemical engineering.  pp.467-475,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-22
2.

国際会議録
国際会議録
2. Fluorescence thermometer based on phase angle measurement [5855-178]
Katsumata, T. ; Mochida, S. ; Kubo, H. ; Usui, Y. ; Aizawa, H. ; Komuro, S. ; Morikawa, T.
出版情報: 17th International Conference on Optical Fibre Sensors.  pp.727-730,  2005.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5855
3.

国際会議録
国際会議録
3. Process development of 6-in EUV mask with TaBN absorber
Shoki, T. ; Hosoya, M. ; Kinoshita, T. ; Kobayashi, H. ; Usui, Y. ; Ohkubo, R. ; Ishibashi, S. ; Nagarekawa, O.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.857-864,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
4.

国際会議録
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4. Advanced photomask repair technology for 65nm lithography (5) [6283-108]
Aramaki, F. ; Kozakai, T. ; Sugiyama, Y. ; Muramatsu, M. ; Koyama, Y. ; Matsuda, O. ; Suzuki, K. ; Okabe, M. ; Hagiwara, R. ; Yasaka, A. ; Adachi, T. ; Tanaka, Y. ; Suga, O. ; Nishida, N. ; Usui, Y.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.628310-628310,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283