1.

国際会議録
国際会議録
1. Merged 2.5-V and 3.3-V 0.25-ｦﾌm CMOS technology
Kizilyalli,I.C. ; Huang,R.Y. ; Hwang,D. ; Kane,B.C. ; Ashton,R. ; Kuehne,S. ; Deng,X. ; Twiford,M.S. ; Martin,E.P. ; Shuttleworth,O. ; Wittingham,K. ; Lytle,S. ; Ma,Y. ; Roy,P.K. ; Olmer,L. ; Vaidya,H. ; Li,F. ; Li,X. ; Persson,E. ; Massengale,A.
出版情報: Microelectronic device technology II : 23-24 September, 1998, Santa Clara, California.  pp.175-181,  1998.  Bellingham, Washington.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 3506
2.

国際会議録
国際会議録
2. High contact resistance heavily doped silicided p+junctions
Twiford,M.S. ; Stevie,F.A. ; Prather,E.B. ; Thoma,M.J. ; Cochran,W.T.
出版情報: Microelectronic Manufacturing Yield, Reliability, and Failure Analysis II.  pp.360-366,  1996.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 2874