1.

国際会議録
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1. CHEMICAL REACTION PATHWAYS FOR THE DEPOSITION OF AMORPHOUS SILICON-HYDROGEN ALLOYS BY REMOTE PLASMA ENHANCED CVD
Parsons, G.N. ; Tsu, D.V. ; Lucovsky, G.
出版情報: Chemical perspectives of microelectronic materials : symposium held November 30-December 2, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.263-268,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 131
2.

国際会議録
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2. SILICON SUBOXIDES: THE "CO-DEPOSITION" OF a-Si:H AND SiO2
Tsu, D.V. ; Lucovsky, G. ; Watkins, M.W.
出版情報: Chemical perspectives of microelectronic materials : symposium held November 30-December 2, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.289-294,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 131
3.

国際会議録
国際会議録
3. THE EFFECTS OF SURFACE TREATMENT FOR LOW TEMPERATURE SILICON DIOXIDE DEPOSITION ON CADMIUM TELLURIDE
Choi, Seong S. ; Kim, S.S. ; Tsu, D.V. ; Lucovsky, G.
出版情報: Chemical perspectives of microelectronic materials : symposium held November 30-December 2, 1988, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.313-318,  1989.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 131
4.

国際会議録
国際会議録
4. FORMATION OF MULTILAYER SiO2-SiOx HETEROSTRUCTURES BY CONTROL OF REACTION PATHWAYS IN REMOTE PECVD
Tsu, D.V. ; Kim, S.S. ; Theil, J.A. ; Wang, Cheng ; Lucovsky, G.
出版情報: Characterization of plasma-enhanced CVD processes : symposium held Novermber 27-28, 1989, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.209-214,  1990.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 165
5.

国際会議録
国際会議録
5. DEPOSITION OF DIELECTRIC FILMS BY REMOTE PLASMA ENHANCED CVD
Lucovsky G. ; Tsu, D.V. ; Markunas R.J.
出版情報: Plasma processing : symposium held April 15-18, 1986, Palo Alto, California, U.S.A..  pp.323-334,  1986.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 68
6.

国際会議録
国際会議録
6. THE GROWTH OF SILICON OXIDE FILMS BY REMOTE PLASMA ENHANCED CVD
Tsu, D.V. ; Lucovsky, G.
出版情報: Interfaces, superlattices, and thin films : symposium held December 1-6, 1986, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.595-602,  1987.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 77
7.

国際会議録
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7. DEPOSITION OF THIN INSULATING FILMS BY PLASMA ENHANCED CVD
Lucovsky, G. ; Richard, P.D. ; Tsu, D.V. ; Markunas, R.J.
出版情報: Thin films : interfaces and phenomena : symposium held December 2-6, 1985, Boston, Massachusetts, USA.  pp.529-534,  1985.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 54
8.

国際会議録
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8. GROWTH OF a-Si:H FILMS BY REMOTE PLASMA ENHANCED CVD (RPECVD)
Parsons, G.N. ; Tsu, D.V. ; Lucovsky, G.
出版情報: Amorphous silicon technology : symposium held April 5-8, 1988, Reno, Nevada, U.S.A..  pp.37-42,  1988.  Pittsburgh, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 118