1.

国際会議録
国際会議録
1. Phase defect repair for the chromeless phase lithography (CPL) mask
Fan, S. ; Hsu, M. ; Tseng, A. ; Chen, J.F. ; Van Den Broeke, D.J. ; Lei, H. ; Hsu, S. ; Shi, X.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part One  pp.221-231,  2002.  Bellingham, WA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
2.

国際会議録
国際会議録
2. Comparsion and correlation of VSS simulation results using images from different inspection systems
Hung, K. ; Lin, D. ; Chou, R.L. ; Yang, S.C. ; Lee, D. ; Tseng, A. ; Unno, H. ; Chen, J.-H. ; Huang, J. H.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.666-672,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754