1.

国際会議録
国際会議録
1. SILICON SURFACES EXPOSED TO ANHYDROUS HF/CH3OH ETCHING
Torek, K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.384-391,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
2.

国際会議録
国際会議録
2. REMOVAL OF Al FROM SILICON SURFACES USING UV/Cl2
Daffron, C. ; Torek, K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Proceedings of the Third International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.281-287,  1994.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 1994-7
3.

国際会議録
国際会議録
3. APPLICATIONS OF NON-INVASIVE AC-SURFACE PHOTOVOLTAGE MONITORING IN INTEGRATED CIRCUIT CLEANING
Torek, K. ; Lee, W. ; Palsulich, D. ; Weston, L. ; Gonzalez, F.
出版情報: Proceedings of the Fifth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.392-399,  1997.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 97-35
4.

国際会議録
国際会議録
4. Anhydrous HF Processing as an Alternative to HF/Water Processes
Staffa, J. ; Roman, P. ; Chang, K. ; Torek, K. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Environmental, safety, and health issues in IC production : symposium held December 4-5, 1996, Boston, Massachusetts, U.S.A..  pp.9-,  1997.  Pittsburgh, Pa..  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 447
5.

国際会議録
国際会議録
5. Monitoring of HF/H2O Treated Silicon Surfaces Using Non-Contact Surface Charge Measurements
Roman, P. ; Hwang, D. ; Torek, K. ; Ruzyllo, J. ; Kamieniecki, E.
出版情報: Ultraclean semiconductor processing technology and surface chemical cleaning and passivation : Symposum held April 17-19, 1995, San Francisco, California, USA.  pp.401-,  1995.  Pittsburgh, PA.  MRS - Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 386
6.

国際会議録
国際会議録
6. EVOLUTION OF Si SURFACES AFTER ANHYDROUS HF:CH3OH ETCHING
Torek, K. ; Miechkowski, A. ; Ruzyllo, J.
出版情報: Proceedings of the Fourth International Symposium on Cleaning Technology in Semiconductor Device Manufacturing.  pp.208-213,  1995.  Pennington, NJ.  Electrochemical Society
シリーズ名: Electrochemical Society Proceedings Series
シリーズ巻号: 95-20