1.

国際会議録
国際会議録
1. Atomic Layer Deposition of Metal Oxide Films on GaAs (100) surfaces
Theodosia Gougousi ; Justin C. Hackley ; John W. Lacis ; John Demaree
出版情報: CMOS gate-stack scaling--materials, interfaces and reliability implications : symposium held April 14-16, 2009, San Francisco, California, U.S.A..  pp.119-124,  2009.  Warrendale, Pa..  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 1155
2.

国際会議録
国際会議録
2. Low Temperature Deposition of Metal Oxide Thin Films in Supercritical Carbon Dioxide using Metal-organic Precursors
Theodosia Gougousi ; Zhiying Chen
出版情報: Organic/inorganic hybrid materials-2007 : symposium held April 9-13, 2007, San Francisco, California, U.S.A..  pp.307-312,  2008.  Warrendale, PA.  Materials Research Society
シリーズ名: Materials Research Society symposium proceedings
シリーズ巻号: 1007