1.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
1. Automated CFD Parameter Studies on Distributed Parallel Computers
Rogers, S. ; Aftosmis, M. ; Pandya, S. ; Chaderjian, N. ; Tejnil, E. ; Ahmad, J.
出版情報: A collection of technical papers : 16th AIAA Computational Fluid Dynamics Conference, Orlando, Florida 23-26 June 2003.  v. 3  pp.1964-1972,  2003.  Reston, Va..  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA Computational Fluid Dynamics Conference
シリーズ巻号: 2003
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. Automated CFD Database Generation for a 2nd Generation Glide Back Booster
Chaderjian, N. ; Rogers, S. ; Pandya, S. ; Ahmad, J. ; Tejnil, E.
出版情報: A collection of technical papers : 21st AIAA Applied Aerodynamics Conference, Orlando, Florida, 23-26 June 2003.  v. 2  pp.870-881,  2003.  Reston, Va..  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA Applied Aerodynamics Conference
シリーズ巻号: 2003
3.

国際会議録
国際会議録
3. A single-exposure approach for petterning 45 nm flash/DRAM contacthole mask [6283-117]
Chen, T. ; Van Den Broeke, D. ; Tejnil, E. ; Hsu, S. ; Park, S. ; Berger, G. ; Coskun, T. ; De Vocht, J. ; Corcoran, N. ; Chen, F. J. ; van der Heijden, E. ; Finders, J. ; Engelen, A. ; Socha, R.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology XIII.  pp.62831A-,  2006.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 6283
4.

国際会議録
国際会議録
4. Alternating phase-shift masks for contact patterning
Schenker, R.E. ; Allen, G.A. ; Tejnil, E. ; Ogadhoh, S.
出版情報: Optical Microlithography XVI.  Part One  pp.294-302,  2003.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5040
5.

国際会議録
国際会議録
5. Pattern inspection of EUV masks using DUV light
Liang, T. ; Tejnil, E. ; Stivers, A.R.
出版情報: 22nd Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  Part Two  pp.1065-1072,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4889
6.

国際会議録
国際会議録
6. Lithography strategy for 65-nm node (Invited Paper)
Borodovsky, Y.A. ; Schenker, R.E. ; Allen, G.A. ; Tejnil, E. ; Hwang, D.H. ; Lo, F.-C. ; Singh, V.K. ; Gleason, R.E. ; Brandenburg, J.E. ; Bigwood, R.M.
出版情報: Photomask and Next-Generation Lithography Mask Technology IX.  pp.1-14,  2002.  Bellingham, Wash..  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 4754
7.

国際会議録
国際会議録
7. EUV mask pilot line at Intel Corporation (Keynote Address)
Stivers, A. R. ; Yan, P. -Y. ; Zhang, G. ; Shu, E. Y. ; Tejnil, E. ; Lieberman, B. ; Nagpal, R. ; Hsia, K. ; Penn, M. ; Lo, F. -C.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.13-22,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567
8.

国際会議録
国際会議録
8. Lithography-based automation in the design of program defect masks
Vakanas, G.P. ; Munir, S. ; Tejnil, E. ; Bald, D.J. ; Nagpal, R.
出版情報: Optical Microlithography XVII.  pp.1065-1068,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5377
9.

国際会議録
国際会議録
9. EUVL defect printability at the 32-nm node
Gullikson, E.M. ; Tejnil, E. ; Liang, T. ; Stivers, A.R.
出版情報: Emerging Lithographic Technologies VIII.  pp.791-796,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5374
10.

国際会議録
国際会議録
10. Characterization of defect detection sensitivity in inspection of mask substrates and blanks for extreme-ultraviolet lithography
Tejnil, E. ; Gullikson, E. M. ; Stivers, A. R.
出版情報: 24th Annual BACUS Symposium on Photomask Technology.  pp.943-952,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5567