1.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
1. DSMC analysis of H2 gas venting to space
Taylor, J.C. ; Erlandson, R.E. ; Swaminathan, P.K. ; Uy, O.M.
出版情報: AIAA paper.  pp.1-6,  1996.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA Thermophysics Conference
シリーズ巻号: 1996
2.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
2. Early-time water vapor outgassing from MSX: assessment using the DSMC method
Taylor, J.C. ; Silver, D.M. ; Erlandson, R.E. ; Swaminathan, P.K. ; Boies, M.T. ; Benson, R.C. ; Uy, O.M. ; Galica, G.E. ; Rault, D.F.G.
出版情報: AIAA paper.  pp.1-12,  1997.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : Aerospace Sciences Meeting and Exhibit
シリーズ巻号: 1997
3.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
3. MSX contamination experiment ion mass spectrometer observations during early operations
Erlandson, R.E. ; Boies, M.T. ; Uy, O.M. ; Taylor, J.C. ; Grebowsky, J.M. ; Coulson, J.T.
出版情報: AIAA paper.  pp.2-9,  1997.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : Aerospace Sciences Meeting and Exhibit
シリーズ巻号: 1997
4.

テクニカルペーパー
テクニカルペーパー
4. Time-dependent modeling of gas cloud expansion in the ionosphere with radiation transport and gas dynamics coupling
Dogra, V.K. ; Nance, R.P. ; Taylor, J.C. ; Swaminathan, P.K. ; Erlandson, R.E. ; Meng, C.-I.
出版情報: AIAA paper.  pp.1-8,  1999.  American Institute of Aeronautics and Astronautics
シリーズ名: AIAA Paper : AIAA Thermophysics Conference
シリーズ巻号: 1999
5.

国際会議録
国際会議録
5. Implications of immersion lithography on 193-nm photoresists
Taylor, J.C. ; Chambers, C.R. ; Deschner, R. ; LeSuer, R.J. ; Conley, W.E. ; Burns, S.D. ; Willson, C.G.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.34-43,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
6.

国際会議録
国際会議録
6. Using scanning electrochemical microscopy to probe chemistry at the solid-liquid interface in chemically amplified immersion lithography
LeSuer, R.J. ; Fan, F.-R.F. ; Bard, A.J. ; Taylor, J.C. ; Tsiartas, P. ; Willson, G. ; Conley, W.E. ; Feit, G. ; Kunz, R.R.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XXI.  pp.115-125,  2004.  Bellingham, Wash..  SPIE - The International Society of Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5376
7.

国際会議録
国際会議録
7. Fundamental study of photoresist dissolution with real time spectroscopic ellipsometry and interferometry
Burns, S.D. ; Schmid, G.M. ; Trinque, B.C. ; Willson, J. ; Wunderlich, J. ; Tsiartas, P.C. ; Taylor, J.C. ; Burns, R.L. ; Wilson, C.G.
出版情報: Advances in Resist Technology and Processing XX.  2  pp.1063-1075,  2003.  Bellingham, CA.  SPIE-The International Society for Optical Engineering
シリーズ名: Proceedings of SPIE - the International Society for Optical Engineering
シリーズ巻号: 5039